二氧化硅的酶活性测定和干预法

2021-05-26 11:55:54

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人们发觉二氧化硅对一些杂质向硅中蔓延能起掩蔽功效，运用这一特性和光刻技术造就了硅器件平面工艺。江苏瀚方科技有限公司介绍到在生产制造中，由于要反复多次地开展氧化，因此怎样在硅晶体表层生长发育高品质二氧化硅的技术性，便变成硅平面工艺的基本。

为了更好地确保二氧化硅层的品质，能够采用宏观经济和外部经济的方式开展检测。宏观经济法是用平行面日光灯观查氧化层表层的品质，外部经济可采用化学腐蚀，随后根据光学显微镜开展观察。下边稻壳二氧化硅生产设备介绍一下加工工艺中常见的方式及发生的难题。

稻壳二氧化硅

精准测量氧化层厚度一般采用二种方式，即酶活性测定和干预法。

酶活性测定：稻壳二氧化硅生产设备厂家生产制造中发觉，不一样厚度的氧化层，展现出不一样的颜色，伴随着厚度的提升，颜色从深灰色逐渐变到鲜红色，当厚度再次提升时，氧化层颜色从蓝紫色到鲜红色规律性转变，因而大家制取了颜色与厚度中间关联的表，用于粗略地估计氧化层厚度。在氧化标准已定，加工工艺平稳的状况下，采用这类方式是简易、便捷的。

另一种测氧化层厚度的方式是双光干预法，它是运用氧化层台阶上干涉条纹数量去求氧化层的厚度，其优势是机器设备简易，而且测量精准。

精准测量氧化层厚度首先要制取氧化层的台阶，在样照的二氧化硅层上放银胶或真空泵植物油脂维护一定地区，随后放进盐酸中，将未维护的二氧化硅层浸蚀掉，浸蚀时采用稀释液的盐酸实际效果不错，氧化层的台阶较宽，此外時间不适合太长。浸蚀好之后，用二甲苯或甲苯将银胶擦下去，在沒有浸蚀二氧化硅层的边沿处展现一台阶，台阶越宽，表明出的干涉条纹，就越清晰，测量也精准。

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